淺談當前版本 刺客輸出手法與裝備的選擇

刺客副本向輸出非雷暗兩系火系樓某繞路。

先談談暗系：

暗系手法上爭議不大，以燭魔8摩天樓畢業(yè)首飾極限爐子套八卦為分水嶺的話，此裝備以上非閻魔期五毒lr卡刀，現(xiàn)有另一lxr說法，用宏+戰(zhàn)斗數(shù)據(jù)時間 顯示， lxr一秒應為五刀即lxrlr，因為x的GCD為獨立cd，不可以被左右鍵取消，所以第二組的lxr中x打不出來。那么lr手法一秒2.5組『極限 2.7然而不穩(wěn)定』也就是lrlrl或者rlrlr，與lxr手法相比多一個左鍵減x或右鍵減x的傷害，頻率上又相同，所以非閻魔buff期暗系輸出應為 lr卡刀，閻魔buff期沒什么好說的，rf，空內(nèi)時lrf。

那么對于閻魔暗的靈核選擇，我推薦毀滅，為什么呢。首先因為開局就可以配合花+閻魔打出一波爆發(fā)，其次又因為暗系需要疊毒，每10s后將有2-3秒的 疊毒時間甚至于因為z的cd要進行一波雷系卡刀，所以苦痛的利用率并沒有想象中的那么高，再者針對毀滅靈核時間，適時留好投擲毒霧，閻魔配合靈核打出完美 爆發(fā)，一個毀滅的靈核期需要3-4個完美苦痛才能追平，所以只要不存在副本機制上的大沖突，推薦毀滅暗搭配。

再談談梵天和閻魔：

梵天配合超神花使用，純右鍵打爆發(fā)，一分鐘cd『有神功且使用正確』那么有人說，比起閻魔暗的爆發(fā)，梵天暗會不會更高?首先樓主實測后發(fā)現(xiàn)梵天雷爆發(fā) 其實與閻魔暗相差無幾，那么梵天暗比起梵天雷還少了隱身的爆傷加成，顯然更低。其次高段武器的武器重置，buff疊加速度綜合下來，技能重置綜合實 戰(zhàn)，72秒能使用3-4次左右的毒霧，加之閻魔帶來的增益，可以說暗毀滅閻魔應該是暗系最佳配置。

其次談一談爭議較大的雷系：

苦痛?毀滅?梵天?閻魔?4rf?rf?基本上現(xiàn)在有梵天rf苦痛/毀滅，閻魔4rf苦痛/毀滅這四種選擇。先談談梵天，選擇了梵天就等于選擇了爆發(fā) 流，那么一分鐘cd梵天苦痛對其增益幾何?毀滅+梵天+花打出每72秒一次的爆發(fā)才是梵天的真正意義。有人問梵天為什么不可以打4rf流?如果你想打 4rf，那為什么不選擇閻魔?。。不多說，談談4rf流，因為極限異毒八卦的改『xue』版『ruo』，雷電殺50%改為了60%雷決，讓4rf流復蘇。

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