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新專利曝光！未來Apple Pencil能隔空作畫

來源：互聯(lián)網(wǎng)　|　時間：2018-02-07 15:04:06 |　閱讀：104　|　 標(biāo)簽： 蘋果 　 |　分享到：

據(jù)悉，蘋果打算為Apple Pencil換上新裝備

新專利曝光！未來Apple Pencil能隔空作畫

2017年7月14日，蘋果工程師提交了一項新專利，主要讓Apple Pencil 在一切平面甚至是空中使用，而不僅限于屏幕上。在1月18日正式以《在非電子表面上使用電子輸入設(shè)備創(chuàng)建內(nèi)容》的標(biāo)題公開。

新專利曝光！未來Apple Pencil能隔空作畫

簡而言之，就是使用一支和 Apple Pencil 類似的電子筆，在任何平面上都能夠追蹤筆尖的運動軌跡，比如桌面、紙張甚至是半空。截至目前，蘋果都在進(jìn)行相關(guān)研究，看來離蘋果推出全新的Apple Pencil不遠(yuǎn)了。

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